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pcb罗庄电路板的负片
一般来说,负片制程中运用的溶液是酸碱腐蚀进程。制膜后,所需的途径或铜外表是彻底通明的,而不需要的部分是黑色的。路线工艺曝光后,由于干膜抑制剂暴露在阳光下,彻底通明的部分会被化学硬底,而下面的显影进程不会使薄膜变硬,干膜会被冲走,因此在蚀刻进程中,只有干膜被冲走部分的铜沉积(底片的黑色部分),而保存的干膜没有被冲走,这是我们想要的pcb罗庄电路板(底片的通明部分)。
pcb电路板的正片
一般来说,正片工艺是以碱性蚀刻工艺为基础的。在底片上,所需的途径或铜外表是黑色的,而不需要的部分是彻底通明的。相同,在路线工艺曝光后,彻底通明的部分被暴露在阳光下的干膜阻滞剂的化学作用硬化,随后的显影进程将在下一工序中冲走无硬衬底的干膜,我们用碱性溶液将没有锡和铅保护的铜外表(底片的通明部分)切除,剩下的是pcb电路板(黑膜)部分。
pcb电路板正片和负片的差别
①区别丝印网版(底片)、作业膜、正片和底片及膜面:丝网印刷网有母膜和作业膜(子膜)、黑色和黄色膜、正片和负片;
②底片亦称黑片,亦称复写底片。然而,作业底片不仅是黄色片,还有黑色片来做工件。它主要用于制作高精度HDI板或节约本钱,在小批量出产制作pcb电路板中一次性大批量出产和制作pcb电路板的运用。
③当薄膜外表不一起,黑色薄膜的亮面是薄膜,而黄色薄膜则相反。一般来说,可以看出,侧面是依据涂鸦笔或刀头在丝网印刷上的胶片外表。
④黄膜运用注意事项:有润滑和哑光两种外表,第二种敷贴简单呈现油面压痕。
⑤在膜电路上透光的负膜(含铜)为正膜;正膜用于图形电镀工艺,显影剂滴下为途径,剩下作用为耐腐蚀电镀工艺,要害镶嵌物为铅和锡。在即时刻蚀进程中通常运用薄膜,显影剂后的耐腐蚀性是途径,而酸碱蚀刻液则是用来进行即时蚀刻的进程。
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